西舘 祐樹
―Yuki NISHIDATE

2023年10月現在

所属 理工学研究科 修士1年
チームGraphics Paradigms
研究テーマ高速プライマリレイ走査のための
アフィン変換レイアライメント
メールYuki.Nishidatefj.ics.keio.ac.jp
個人サイト

自己紹介

レンダリングやアーティストの作業効率化に興味があります。

経歴

2015年 4月慶應義塾湘南藤沢高等部 入学
2018年 3月慶應義塾湘南藤沢高等部 卒業
2018年 4月慶應義塾大学 理工学部 学門5 入学
2019年 4月慶應義塾大学 理工学部 情報工学科 進学
2022年 3月 慶應義塾大学 理工学部 情報工学科 卒業
2022年 4月 慶應義塾大学 大学院理工学研究科 修士課程 入学

業績

発表(査読あり)

[P-1] Yuki NishidateIssei Fujishiro: “Affine-Transformed Ray Alignment for Fast Ray Traversal,” in SIGGRAPH Asia 2022 Technical Communications (SA ’22 Technical Communications), December 06―09, 2022, Daegu, Korea, ACM, New York, NY, USA, Article 13, 4 pages, DOI: 10.1145/3550340.3564228

[P-2] 西舘 祐樹藤代 一成:「レイ走査高速化のためのアフィン変換レイアライメント」(ショート発表),Visual Computing 2022(京都),pp. 20:1-20:7, 2022年10月6-8 日,CGVI学生発表賞

[P-3] 西舘 祐樹藤代 一成:「メッシュシェーダを用いた効率的な粒子ベース流体表面再構成」(ショート発表),Visual Computing 2023(東京), 2023年9月17-20 日

発表(査読なし)

[P-1] 西舘 祐樹藤代 一成:「プライマリレイ走査高速化のためのアフィン変換レイアライメント―Embreeを用いた実装―」,情報処理学会研究報告,Vol. 2022-CG-185,No. 2,pp. 1―6,2022年3月11日 , 優秀研究発表賞学生発表賞

[P-2] 西舘 祐樹藤代 一成:「高速プライマリレイ走査のためのアフィン変換レイアライメント」,情報処理学会第84回全国大会(愛媛大学,ハイブリッド開催),6ZF-01 (講演論文集(4), pp. 247–248),2022年3月4日 , 学生奨励賞

コンペティション

[CP-1]西舘 祐樹:バンダイナムコ研究所データサイエンス・チャレンジ2021,優勝

受賞

西舘 祐樹:「プライマリレイ走査高速化のためのアフィン変換レイアライメント―Embreeを用いた実装―」,情報処理学会 ,2022年度 山下記念研究賞

メンバページへもどる