西舘 祐樹
―Yuki NISHIDATE
2023年10月現在
所属 | 理工学研究科 修士1年 | |
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チーム | Graphics Paradigms | |
研究テーマ | 高速プライマリレイ走査のための アフィン変換レイアライメント |
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メール | Yuki.Nishidatefj.ics.keio.ac.jp | |
個人サイト | – |
自己紹介
レンダリングやアーティストの作業効率化に興味があります。
経歴
2015年 4月 | 慶應義塾湘南藤沢高等部 入学 |
2018年 3月 | 慶應義塾湘南藤沢高等部 卒業 |
2018年 4月 | 慶應義塾大学 理工学部 学門5 入学 |
2019年 4月 | 慶應義塾大学 理工学部 情報工学科 進学 |
2022年 3月 | 慶應義塾大学 理工学部 情報工学科 卒業 |
2022年 4月 | 慶應義塾大学 大学院理工学研究科 修士課程 入学 |
業績
発表(査読あり)
[P-1] Yuki Nishidate, Issei Fujishiro: “Affine-Transformed Ray Alignment for Fast Ray Traversal,” in SIGGRAPH Asia 2022 Technical Communications (SA ’22 Technical Communications), December 06―09, 2022, Daegu, Korea, ACM, New York, NY, USA, Article 13, 4 pages, DOI: 10.1145/3550340.3564228 [P-2] 西舘 祐樹,藤代 一成:「レイ走査高速化のためのアフィン変換レイアライメント」(ショート発表),Visual Computing 2022(京都),pp. 20:1-20:7, 2022年10月6-8 日,CGVI学生発表賞 [P-3] 西舘 祐樹,藤代 一成:「メッシュシェーダを用いた効率的な粒子ベース流体表面再構成」(ショート発表),Visual Computing 2023(東京), 2023年9月17-20 日発表(査読なし)
[P-1] 西舘 祐樹,藤代 一成:「プライマリレイ走査高速化のためのアフィン変換レイアライメント―Embreeを用いた実装―」,情報処理学会研究報告,Vol. 2022-CG-185,No. 2,pp. 1―6,2022年3月11日 , 優秀研究発表賞 ,学生発表賞 [P-2] 西舘 祐樹,藤代 一成:「高速プライマリレイ走査のためのアフィン変換レイアライメント」,情報処理学会第84回全国大会(愛媛大学,ハイブリッド開催),6ZF-01 (講演論文集(4), pp. 247–248),2022年3月4日 , 学生奨励賞コンペティション
[CP-1]西舘 祐樹:バンダイナムコ研究所データサイエンス・チャレンジ2021,優勝受賞
西舘 祐樹:「プライマリレイ走査高速化のためのアフィン変換レイアライメント―Embreeを用いた実装―」,情報処理学会 ,2022年度 山下記念研究賞